模具pvd是什麼意思

① 什麼是pvd電鍍

VD簡介
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
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PVD技術的發展
PVD技術出現於二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性塗層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密復雜刀具的塗層； PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。目前PVD塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合塗層。
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塗層的PVD技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此制備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小。
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補充
物理氣向沉積技術 * PVD 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點，
與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 PVD 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。
Ionbond 陰極電弧 PVD 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明，如今，絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。
工藝溫度
典型的 PVD 塗層加工溫度在 250 ℃— 450 ℃之間，但在有些情況下依據應用領域和塗層的質量， PVD 塗層溫度可低於 70 ℃或高於 600 ℃進行塗層。
塗層適用的典型零件
PVD 適合對絕大多數刀具模具和部件進行沉積塗層，應用領域包括刀具和成型模具，耐磨部件，醫療裝置和裝飾產品。
材料包括鋼質，硬質合金和經電鍍的塑料。
典型塗層類型
塗層類型有 TiN, ALTIN,TiALN,CrN,CrCN,TiCN 和 ZrN, 復合塗層包括 TiALYN 或 W — C ： H/DLC
塗層厚度一般 2~5um ，但在有些情況下，塗層薄至 0.5um , 厚至 15um裝載容量。
塗層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時。
加工過程優點
適合多種材質，塗層多樣化
減少工藝時間，提高生產率
較低的塗層溫度，零件尺寸變形小
對工藝環境無污染

② 板厚多少的模具做pvd處理

如果使用的是Cr12MoV,淬火溫度為1050℃，硬度為HRC62~63；Cr12淬火溫度為980℃硬度為HRC61~64；CrWMn淬火溫度為830℃硬度為HRC63~65。回火溫度均為150溫度。

③ 誰知道PVD是什麼工藝，或者是什麼什麼意思 我指的手錶上用到的PVD外殼是什麼材料！

PVD是物理氣象沉積的英文縮寫簡稱，國內俗稱「鍍鈦」
手錶外殼上的PVD是指在外殼表面有層PVD鍍層，一般的材料為氮化鈦TIN（黃色），TIC（黑色），CrN（銀白色），TIALN（玫瑰色）
該鍍層具有硬度高，美觀，不容易磨損等特點

④ 「pvd」是什麼意思

PVD(Physical Vapor Deposition):物理氣相沉積，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
一般用來表面改性或鍍塗層。

⑤ pvd與電鍍的區別是什麼

PVD基本方法:真空蒸發、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。

電鍍(Electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料製件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如銹蝕)，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進美觀等作用。

⑥ 什麼是PVD鍍膜什麼是PVD鍍膜機

物理氣相沉積就是PVD，相應的設備就是PVD鍍膜機。也就是在鍍膜過程中沒有化學反應過程的鍍膜。

⑦ 模具表面做PVD塗層有什麼作用

1、PVD塗層提高模具表面耐磨性，使其硬度變的更高；

2、PVD塗層的摩擦系數低，致使它的潤滑性很好；

3、通過PVD塗層技術使模具抗化學腐蝕能力大大提高。

PVD的作用是可以使某些有特殊性能的微粒噴塗在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。基本方法有：真空蒸發、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

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PVD最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性塗層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。

PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密復雜刀具的塗層；PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。

當前PVD塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。

PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合塗層。

⑧ 什麼是PVD處理

PVD是物理氣象沉積的英文簡稱。目前在中國是一中先進的表面處理，就是把具有特殊性能的材料的微粒用物理的方法擴散到母材的表面，讓母材表面也具有一種特殊的性能。

⑨ pvd是什麼意思

物理氣相沉積的簡稱。

物理氣相沉積(Physical Vapour Deposition，PVD)技術表示在真空條件下，採用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，並通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。

物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。發展到目前，物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。

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主要優點和特點如下：

1、鍍膜材料廣泛，容易獲得:包括純金屬、合金、化合物，導電或不導電，低熔點或高熔點，液相或固相，塊狀或粉末，都可以使用或經加工後使用。

2、鍍料汽化方式:可用高溫蒸發，也可用低溫濺射。

3、沉積粒子能量可調節，反應活性高。通過等離子體或離子束介人，可以獲得所需的沉積粒子能量進行鍍膜，提高膜層質量。通過等離子體的非平衡過程提高反應活性。

4、低溫型沉積:沉積粒子的高能量高活性，不需遵循傳統的熱力學規律的高溫過程，就可實現低溫反應合成和在低溫基體上沉積，擴大沉積基體適用范圍。可沉積各類型薄膜:如金屬膜、合金膜、化合物膜等。

5、無污染，利於環境保護。

物理氣相沉積技術已廣泛用於各行各業，許多技術已實現工業化生產。其鍍膜產品涉及到許多實用領域。

⑩ 什麼叫PVD處理

1. PVD簡介
PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

2. PVD技術的發展

PVD技術出現於二十世紀七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高性能、高可靠性塗層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密復雜刀具的塗層；PVD工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。目前PVD塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復合塗層。

3. 星弧塗層的PVD技術

增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。

過濾陰極弧：過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的宏觀粒子、離子團過濾干凈，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此制備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。

磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

離子束DLC：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得DLC膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料污染所帶來的缺陷降至最小。
參考資料：http://www.jlet.cn/ke/jxgc/20080101/14718.html