半導體光阻材料是什麼

『壹』 什麼叫半導體光電材料

導電性能介於導體與絕緣體之間的材料，叫做半導體.例如：鍺、硅、砷化鎵等．

半導回體光電材料的大家族中答包含許多成員，他們有的能把電變成光，也有的能把光變成電，還有的能對光和電的信號進行各種處理和放大。
半導體光電材料的工作波長是和製作器件所用的半導體材料的種類相關的。半導體材料中存在著導帶和價帶，導帶上面可以讓電子自由運動，而價帶下面可以讓空穴自由運動，導帶和價帶之間隔著一條禁帶，當電子吸收了光的能量從價帶跳躍到導帶中去時，就把光的能量變成了電，而帶有電能的電子從導帶跳回價帶，又可以把電的能量變成光，這時材料禁帶的寬度就決定了光電器件的工作波長.

『貳』 什麼叫做光阻

光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業製程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。

光阻有兩種，正向光阻(positive photoresist)和負向光阻(negative photoresist)

正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶於光阻顯影液，而沒有照到光的部分不會溶於光阻顯影液。

負向光阻是光阻的一種，其照到光的部分不會溶於光阻顯影液，而沒有照到光的部分會溶於光阻顯影液。

(2)半導體光阻材料是什麼擴展閱讀：

光阻通常使用在紫外光波段或更小的波長(小於400納米)。例如，DNQ在300納米到450納米間有很強的吸收。

正型光阻劑及負型光阻劑主要是應用在LED晶元製造的金屬電極蒸鍍Lift-off製程中，由於LED電極所使用的金屬材料不易經由蝕刻的方式製作電路圖形。

所以利用拔起（Lift-off）微影製程，得到突起的（Overhang）光阻圖形，使金屬在蒸鍍過程中不會連續性滿布在光阻劑上，再用去光阻劑的方式將未遭金屬布蓋的光阻部分拔起，完成金屬電極的圖案。

半導體製程常用的正型光阻劑，在光學曝光方式下，光阻劑上層接受能量較下層光阻高，使得正型光阻劑成像大部分圖形為上窄下寬，無法經一次曝光方式即得到Overhang的圖形，而負型光阻劑的成像恰好與正型光阻劑圖像相反，所以負型光阻劑是lift-off製程的最佳選擇。

『叄』 半導體光電材料是什麼

導電性能介於導體與絕緣體之間的材料，叫做半導體．例如：鍺、硅、砷化鎵等． 半導體在科學技術，工農業生產和生活中有著廣泛的應用．（例如： 電視、
，用來測量很小范圍內的溫度變化．當你提起電話與遠在天邊的朋友侃侃而談，交換著許多重要的和不重要的消息時，當你打開電腦去網上沖浪，
貪婪地吸吮著各種有價值和沒價值的信息時，
半導體激光器、探測器、調制器、和光放大器等正默默地為你充當著忠實的信使；當你把光碟放進各種五花八門的機器中時，半導體激光器和探測器正作為你勤勞的僕人不厭其煩地取出那張塑料片上的信息，把它變成你想欣賞的電影、音樂和其他你想要的東西。
人造衛星遨遊在太空中，半導體紅外探測器是它的千里眼
，半導體太陽能電池為它提供著用之不竭的能源；我們眼前的五顏六色的世界也有
半導體發光二極體
的一份功勞。半導體光電器件的大家族中包含許多成員，他們有的能把電變成光
，也有的能把光變成電，還有的能對光和電的信號進行各種處理和放大。半導體光電器件的工作波長是和製作器件所用的半導體材料的種類相關的。半導體材料中存在著導帶和價帶，導帶上面可以讓電子自由運動，而價帶下面可以讓空穴自由運動，導帶和價帶之間隔著一條禁帶，當電子吸收了光的能量從價帶跳躍到導帶中去時，就把光的能量變成了電，而帶有電能的電子從導帶跳回價帶，又可以把電的能量變成光，這時材料禁帶的寬度就決定了光電器件的工作波長。

『肆』 綠色環保的半導體光電材料都有哪些

綠色環保是由標準的，有些要求無鉛，有些要求無汞，有些是ROHS的，很多半導體器件是滿足無鉛和RoHS的。

『伍』 光刻膠板塊龍頭股票有哪些

首先我們要了解什麼是光刻膠？

光刻膠是一種感光材料，矽片製造中，光刻膠以液態塗在矽片表面，而後乾燥成膠膜。光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到矽片表面，而光刻膠的作用就是避免在矽片表面留下痕跡，在半導體材料中技術難度最大。光刻工藝成本占整個晶元製造工藝的35%，耗費時間占整個晶元工藝的40-50%。

然後，我國的光刻膠正面臨著怎樣的機會和危機？

危機: 光刻膠可細分為三類：半導體光刻膠、LCD光刻膠、PCB光刻膠，其中半導體光刻膠的技術要求最高，但我國目前主要較低端的PCB光刻膠，全球光刻膠的高端核心技術被美國和日本壟斷，其中日本占據了全球70%以上的市場份額。未來幾年光刻膠市場的年均增長率大約是15%，材料的國產化率有望從5%快速提升至40%。

機會: 新冠疫情使得國內進出口貿易大受影響，日本「封城」導致國內光刻膠供需矛盾增加，國產替代刻不容緩。預計2022年半導體光刻膠市場約55億，為2019年的兩倍；面板光刻膠市場將達105億。

最後，我們來看看光刻膠概念的部分龍頭企業:

1、南大光電（國內領先廠家）

2、容大感光（油墨龍頭企業）

3、晶瑞股份（微電子化學品龍頭）

4、飛凱材料（液晶材料封裝材料龍頭）

5、上海新陽（半導體消耗品龍頭）

『陸』 壓阻效應常用的半導體電阻材料為什麼和什麼

感測器簡答復習題
填空題：
1. 感測器可分為物性型和結構型感測器，光敏電阻是物性型感測器，電容式加速度感測器是結構型感測器。
2. 感測器的輸入輸出特性指標可分為靜態和動態兩大類，線性度和靈敏度是感測器的靜態指標，而頻率響應是感測器的動態指標。
3. 導電材料的截面積尺寸發生變化後其電阻會發生變化，利用這一原理製成的感測器稱為電阻應變式感測器，利用電磁感應效應、霍爾效應、磁阻效應可製成的感測器為磁電式感測器，可實現速度、位移等參數測量，而壓阻式感測器則是利用了一些具有離子晶體電介質的壓電效應，它的敏感的最基本的物理量也是力。
4. 光電效應分為外光電效應和內光電效應，其中，光敏電阻的原理是基於內光電效應。
5. 電容式感測器按結構特點可分為變阻距型、變面積型、變介質型三種。
6. 目前，壓電式感測器的常用材料有壓電晶體、壓電陶瓷和高分子電致伸縮材料三類。壓電材料的逆電壓效應還可以用來產生超聲波。
7. 壓電陶瓷是人工製造的多晶體，是由無數細微的電疇組成，電疇具有自己自發的極化、方向，經過極化處理的壓電式陶瓷具有壓電效應。
8. 安熱電偶本身結構劃分有普通熱電偶、鎧裝熱電偶、薄膜熱電偶。
9. 電阻應變片的溫度補償中，若採用電橋補償法測量應變時，工作應變片粘貼在被測試件表面上，補償應變片粘貼在與被測試件完全相同的補償塊上，且補償應變片不承受應變。
10. 濕敏電阻是一種阻值隨環境相對濕度變化而變化的敏感元件。
11. 測試系統的靜態測試指標，主要有線性度、滯遲、重復性、分辨力、穩定性各種抗干擾穩定性等，通常用輸入量輸出量的對應關系來表徵。
12. 熱敏電阻的阻值與溫度之間的關系稱熱敏電阻的熱電特性，它是熱敏電阻測溫的基礎。
一． 感測器的定義及組成框圖
感測器是能感受規定的被測量並按照一定的規律轉換成可用輸出信號的器件或裝置，通常由敏感元件和轉換元件組成
被測信號[敏感元件]——>[感測元件]——>[信號調節轉換電路]
[輔助電路]
二． 感測器的線性度是怎樣確定的，擬合刻度直線有幾種方法
(1) 感測器標定曲線和擬定直線的最大偏差與滿量程輸出值的百分比叫感測器的線性度
(2) 擬合直線的常用求質：切線法，端基法，最小乘法
三． 什麼是電磁感應效應，霍爾效應
W匝線圈在磁場中運動切割磁力線或線圈所在磁場的傳遞變化時，線圈中所產生的感應電動勢e的大小決定於穿過線圈的磁通量Φ的變化率，

『柒』 半導體材料和光導纖維

半導體材料就是所謂的單晶硅。單晶硅就是晶體類型唯一的硅晶體。我們平時回遇到的物體比如鐵塊，看上答去方方正正的，但是微觀上它是多種晶體類型混在一起的。生活中的晶體一般都是多晶型的。而製作半導體器件用的硅應為工業的要求必須是單一晶型的。製作太陽能電池的單晶硅要求低一些，純度6個9，也就是小數點後6個9。而製作集成電路板的單晶硅要求高一點，至少是9個9。
光導纖維就是我們說的光纖，光纖傳導是下一代傳導主流。主要材料是二氧化硅，其實就是類似我們的玻璃，把它做成很細很細的絲狀。玻璃的透光性很好。
我就是學半導體材料的，而且主要是單晶硅。看到了就順便把我知道的告訴你。我也是剛剛步入這個專業，知道的還不太深，反正大致就是這個意思了。

『捌』 半導體的主要材料是什麼

半導體：常溫下導電性能介於導體（conctor）與絕緣體（insulator）之間的材料專。
主要材料：
元素半屬導體：鍺和硅是最常用的元素半導體；
化合物半導體：包括第Ⅲ和第Ⅴ族化合物（砷化鎵、磷化鎵等）、第Ⅱ和第Ⅵ族化合物（ 硫化鎘、硫化鋅等）、氧化物（錳、鉻、鐵、銅的氧化物）,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體（鎵鋁砷、鎵砷磷等）。
技術科研領域：
(1)集成電路
它是半導體技術發展中最活躍的一個領域，已發展到大規模集成的階段。在幾平方毫米的矽片上能製作幾萬只晶體管，可在一片矽片上製成一台微信息處理器，或完成其它較復雜的電路功能。集成電路的發展方向是實現更高的集成度和微功耗，並使信息處理速度達到微微秒級。
(2)微波器件
半導體微波器件包括接收、控制和發射器件等。毫米波段以下的接收器件已廣泛使用。在厘米波段，發射器件的功率已達到數瓦，人們正在通過研製新器件、發展新技術來獲得更大的輸出功率。
(3)光電子器件
半導體發光、攝象器件和激光器件的發展使光電子器件成為一個重要的領域。它們的應用范圍主要是：光通信、數碼顯示、圖象接收、光集成等。

『玖』 【求助】請問一下~什麼是光阻材料

MCWANDE(站內聯系TA)Photoresist, 是一個配方混合物.
一般先用它甩膜,
然後通過光干涉寫圖案.
再用RIE轟擊.
干涉的圖案就會轉回移在襯底上.floyd.lee(站內聯答系TA)光阻材料是印刷電路板線路影像轉移與製作的重要材料。在電子產品日益輕、薄、短、小之趨勢下，干膜光阻正扮演決定性的角色；其製作技術是直接影響信息及通訊等產品質量的關鍵。
查一下網上還是比較多的資料的。最好去資料庫查查！tracy2008(站內聯系TA)在納米級別的應用比較廣泛，在45nm與32納米技術上越來越廣泛，主要用於寫出然後刻蝕出你想要的圖案。swws16(站內聯系TA)photoresist，又叫光刻膠，一般可以分為positive和negative兩種，當有光或者電子束照射時，它們對於某一種溶劑的溶解性能會發生變化。通過Mask的作用，一部分照到光，一部分沒有照到，從而可以得到對應的圖案。如果是UV照射叫做UV-lithography，如果是電子束照射，叫做E-beam lithography。

『拾』 半導體激光器中的半導體材料是什麼

• 導電能力介於導體與絕緣體之間的材料——禁帶寬度在0-3.5eV之間。