為什麼半導體製程需要潔凈室

❶ 半導體潔凈室

半導體無塵室安全工作規范
一、無塵室須知
進入無塵室前，必須知會管理人，並通過基本訓練
2.進入無塵室嚴禁吸煙，吃(飲)食，外來雜物(如報章，雜志，鉛筆...等)不可攜入，並嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。
3.進入無塵室前，需在規定之處所脫鞋，將鞋置於鞋櫃內，外衣置於衣櫃內，私人物品置於私人櫃內，櫃內不可放置食物。
4.進入無塵室須先在更衣室，將口罩，無塵帽，無塵衣以及鞋套按規定依程序穿戴整齊，再經空氣洗塵室洗塵，並踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。
5.戴口罩時，應將口罩戴在鼻子之上，以將口鼻孔蓋住為原則，以免呼吸時污染晶元。
6. 穿著無塵衣，無塵帽前應顯畸理服裝以及頭發，以免著上無塵衣後，不得整理又感不適。
7. 整肅儀容後，先戴無塵帽，無塵帽的穿戴原則是
(1)頭發必須完全覆蓋在帽內，不得外露。
（2）無塵帽之下擺要平散於兩肩之上，穿上工作衣後，方不致下擺脫出，裸露肩頸部。
8.無塵帽戴妥後，再著無塵衣，無塵衣應尺吋合宜，才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞，穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態，無塵衣不可反穿。
9.穿著無塵衣後，才著鞋套，拉上鞋套並將鞋套整平，確實蓋在褲管之上。
10戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染)，戴上手套後，應將手套之手腕置於衣袖內，以隔絕污染源。
11.無塵衣著妥後，經洗塵，並踩踏除塵毯，方得進入無塵室。
12. 不論進入或離開無塵室，須按規定在更衣室脫無塵衣，不可在其它區域為之，尤不可在無塵室內邊走邊脫。
13. 無塵衣，鞋套等，應定期清洗，有破損，脫線時，應即換新。
14. 脫下無塵衣時，其順序與穿著時相反。
15. 脫下之無塵衣應吊好，並放於更衣室內上層櫃子中;鞋套應放置於吊好的無塵衣下方。
16. 更衣室內小櫃中，除了放置無塵衣等規定物品外，不得放置其它物品。
17. 除規定紙張及物品外，其它物品一概不得攜入無塵室。
18。無塵衣等不得攜出無塵室，用畢放置於規定處所。
19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重復使用。
20. 任何東西進入無塵室，必須用灑精擦拭乾凈。
21. 任何設備的進入，請知會管理人，在無塵室外擦拭乾凈，方可進入。
22. 未通過考核之儀器，禁止使用，若遇緊急情況，得依緊急處理步驟作適當處理，例如關閉水、電、氣體等開關。
23.無塵室內絕對不可動火，以免發生意外。
二、無塵室操作須知
1.處理晶元時，必須戴上無纖維手套，使用清洗過的干凈鑷子挾持晶元，請勿以手指或其它任何東西接觸晶元，遭碰觸污染過的晶元須經清洗，方得繼續使用：
(1)任何一支鑷子前端(即挾持晶元端)如被碰觸過，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。
(2) 晶元清洗後進行下一程序前，若被手指碰觸過，必須重新清洗。
(3) 把晶元放置於石英舟上，准備進爐管時，若發現所用鑷子有污損現象或晶元上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將晶元重新清洗，並立即更換干凈的鑷子使用。
2. 晶元必須放置盒中，蓋起來存放於規定位置，盡可能不讓它暴露。
3.避免在晶元上談話，以防止唾液濺於晶元上，在晶元進擴散爐前，請特別注意，防止上述動作產生，若晶元上沾有纖維屑時，用氮氣槍噴之。
4. 從石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上，取出晶元時，必須垂直向上挾起，避免刮傷晶元，顯微鏡鏡頭確已離晶元，方可從吸座上移走晶元。
5. 晶元上，若已長上氧化層，在送黃光室前切勿用鑽石刀在晶元上刻記。
6. 操作時，不論是否戴上手套，手絕不能放進清洗水槽。
7.使用化學站或烤箱處理晶元時，務必將晶元置放入晶舟內，不可使用塑料盒。
8.擺置晶元於石英舟時，若晶元掉落地上或手中則必須重新清洗晶元，然後再進氧化爐。
9. 請勿觸摸晶元盒內部，如被碰觸或有碎晶元污染，必須重作清洗。
10.手套，廢紙及其它雜碎東西，請勿留置於操作台，手套若燒焦、磨破或纖維質變多必須換新。
11.非經指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。
12. 奇怪的味道或反應異常的溶液，顏色，聲響等請即通知相關人員。
13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時，務必立刻告知負責人員或老師。
14. 晶元盒進出無塵室須保持干凈，並以保鮮膜封裝，違者不得進入。
15. 無塵室內一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。三、黃光區操作須知
1.濕度及溫度會影響對准工作，在黃光區應注意溫度及濕度，並應減少對准機附近的人，以減少濕、溫度的變化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之晶元，不得攜出黃光區以免感光.
3.己上妥光阻，而在等待對准曝光之晶元，應放置於不透明之藍黑色晶盒之內， 盒蓋必須蓋妥。
4. 光罩使用時應持取邊緣，不得觸及光罩面，任何狀況之下，光罩鉻膜不得與他物接觸，以防刮傷，光罩之落塵可以氮氣槍吹之。

❷ 潔凈室是什麼啊

潔凈室=Clearning Room

潔凈室就是潔凈室。但現在給潔凈室賦予了特殊的含義，國際版標准化組權織（ISO）的14644-1標准對潔凈室是這樣說明的：該潔凈室的懸浮粒子濃度受控，其建造和使用方式是使進入、產生、滯留於室內的粒子最少；室內其他參數，比如溫度、濕度、氣壓、按需要受控。該定義的前半部分基本上說明什麼是潔凈，這是一個使粒子的進入、產生、滯留最少化的房間。要實現這一點，首先，要對極大量的送風經高效過濾器過濾。這種送風的目的在於：（1）稀釋並清除室內人員和設備散發出的粒子和細菌；（2）向房間加壓，確保臟空氣不會流入潔凈室。其次，潔凈室的建築材料不產生粒子且便於清潔。最後，潔凈室人員使用服裝罩住身體，使他們散發的粒子和微生物最少。這些措施及其他使用潔凈室引入、產生、滯留的污染降至最少的類擬措施。潔凈室還可以控制溫度、濕度、聲音、照明、振動。但這些特性並非潔凈室所專有。

❸ 半導體車間工作對身體有害嗎

四個不會損害身體的原則:1.依規定完整穿著工衣護具;2.依規章操作; 3.按作息時間進出車間;4.定期身體檢查;
守住以上原則，半導體車間工作就不會損害身體;

❹ 潔凈車間為什麼要分級

潔凈車間的等級要以生產產品的要求而定。
潔凈室可分為兩大類：
工業潔凈室
以無生命微粒的控制為對象。主要控制空氣塵埃微粒對工作對象的污染，內部一般保持正壓狀態。 它適用於精密機械工業、電子工業（半導體、集成電路等）宇航工業、高純度化學工業、原子能工業、光磁產品工業（光碟、膠片、磁帶生產）LCD（液晶玻璃）、電腦硬碟、電腦磁頭生產等多行業。
生物潔凈室
主要控制有生命微粒（細菌）與無生命微粒（塵埃）對工作對象的污染。又可分為： A、 一般生物潔凈室：主要控制微生物（細菌）對象的污染。同時其內部材料要能經受各種滅菌劑侵蝕，內部一般保證正壓。實質上其內部材料要能經受各種滅菌處理的工業潔凈室。例：制葯工業、醫院（手術室、無菌病房）食品、化妝品、飲料產品生產、動物實驗室、理化檢驗室、血站等。
B、 生物學安全潔凈室：主要控制工作對象的有生命微粒對外界和人的污染。內部要保持與大氣的負壓。例：細菌學、生物學、潔凈實驗室、物物工程（重組基因、疫苗制備）

❺ 半導體製造潔凈廠房對溫度，濕度有要求，一般是溫度22~28 濕度45~60.我想問下為什麼

主要有兩個方面的原因：一是保證半導體表面的清潔度，以免水汽等的沾污；二是工藝要求，要保證半導體表面乾燥，以免塗膠時產生膠膜脫落等。

❻ 潔凈室為什麼有白光區和黃光區

潔凈室有白光區和黃光區是為了人的視覺舒適以及更好的生產產品綜合考慮的。
適當提高潔凈廠房的人工照明照度水平，提高工作人員的視覺衛生，促進國民經濟的發展都是有利的。目前國家正在制定《工業和民用建築照明設計標准》，新規范中的照度標准將有較大的提高。不過考慮到生產車間的明暗適應，潔凈廠房的走道、休息室的照度與工作時的照度等級不能相差太大，一般相差1~2個等級較合適，但最低不能低於100 1x。有窗潔凈廠房的標准與普通生產廠房一樣按現行國家標准《工業企業照明設計標准》GB50034-92執行。
不同的潔凈工業廠房照度按工藝要求的不同也有較大的差異，如顯像管工廠的電子槍裝配車間混合照明的照度要達到1000~3000 1x，除設置一般照明外，還需設置局部照明，局部照明占混合照明照度的比例不能太大，一般照明照度為混合照明照度的5~15%。我國由於電力較緊張擴大了局部照明在混合照明中的照度比例。如果空間照度低，容易產生眩光，使人感到疲勞，但光源亮度不能太高，常選用熒光燈等線狀光源或帶磨砂玻璃的白熾燈。
其次，潔凈廠房中對光源有特殊要求的車間，如：顯像管廠的熒光粉塗敷間、半導體廠房中的光刻間，為了防止感光材料的感光，必須使用黃色或紅色光源的，應滿足其特殊要求選用黃色熒光燈管或低壓鈉燈，黃色熒光燈管也有兩種，一種為燈管內壁塗黃色熒光粉；另一種為白色熒光燈管外套黃色塑料套管，他們的光通量比一般熒光燈都要低。

❼ 加工半導體零件需要多少級潔凈室

半導體集成電路要求的空氣潔凈度凈化等級：
集成電路生產環境要求的空氣潔內凈度等級主容要取決於集成電路的集成度，中山科瓦特機電有限公司針對不同工序的空氣潔凈度等級是依據可能污染的概率和對器件的潛在故障確定的。

舉例說明：
例一、某廠集成電路前工序潔凈廠房，無塵車間設計按加工、生產6英寸矽片、1M集成電路，圖形特形尺雨1.0um，控制粒子粒徑0..1um.

無塵車間空氣潔凈度等級要求：
光刻、勻膠區 ISO 3級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等操作區 ISO 3級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等維修區 ISO 5級

例二、某廠集成電路前工序潔凈廠房，無塵車間設計按加工、生產5英寸矽片、256K集成電路、圖形特形尺雨2.0um，控制粒子粒徑0.2um.

無塵車間空氣潔凈度等級要求：
光刻、勻膠區 ISO 3級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等操作區 ISO 4級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等維修區 ISO 6級
以上是科瓦特潔凈室為您提供的潔凈資訊，

❽ 集成電路半導體車間工廠需要布置無塵車間

集成電路無塵車間是為了滿足半導體製造工藝需求的潔凈室，該無塵車間對環境潔凈度、溫濕度、振動、ESD、AMC控制等都有一定的要求。相對於其他工業潔凈室，集成電路製造無塵車間有面積大、潔凈等級高、溫濕度控制精度高等特點。

遠程在線式遙測激光塵埃粒子計數器是幾乎每個精密電子車間必不可少的設備，如果在我們的半導體車間中有這樣一種監測顆粒濃度的儀器，那麼我們在辦公室時就可以輕鬆了解車間中塵埃粒子情況，實現產品生產與監督智造的智能體驗。例如，當我們檢測到車間內的顆粒濃度過高時，我們可以及時通知相應車間的負責人，並採取針對性的措施降低顆粒濃度，以達到安全可靠的標准，這非常有利於產品的安全生產，為客戶提供可靠的高質量產品。

CW-RPC系列遠程遙測激光塵埃粒子計數器是深圳賽納威研發的智能多點凈化檢測系統的終端設備，不僅可以為用戶提供實時准確地遠程測量所監控環境的微粒數量和凈化等級，根據不同需要增加或減少控制終端，還可以實現7*24實時遠程自動監測，通過RJ45網路介面、WiFi、485（moudbus）等，將數據送給PC終端，顯示當前監測環境的潔凈狀況。該粒子計數器按照國際標准ISO14644-1,GMP和日本工業標准（JIS）要求標定，專業應用於電子行業、制葯車間、半導體、光學或精密機械加工等潔凈室環境自動監測系統。

❾ 無塵車間（潔凈室）是依據什麼劃分凈化等級

無塵車間（潔凈室）等級大體可以分為十萬級、萬級、千級、百版級、十級。數字越小，潔權凈等級越高。

10級的潔凈室凈化工程主要用於帶寬小於2微米的半導體工業。百級潔凈室可用於醫葯工業的無菌製造工藝等，這一潔凈室凈化工程大量應用於，手術室，包括移植手術，集成器的製造、隔離病房等等。

(9)為什麼半導體製程需要潔凈室擴展閱讀：

注意事項：

注意控制污染源，主要是人和進入無塵車間的物品，以及生產過程中發生的塵粒。

人凈路線和物凈路線要合理的分開。人員在進車間前沐浴更衣，著裝符合潔凈標准;物料在進車間前更換包裝吹淋，確保潔凈度符合要求。

無塵凈化車間內的作業人員要嚴格按照無塵室的操作規則進行工作。門窗應處於關閉狀態，車間之間人員和物品的傳遞應有緩沖區，並設置吹林設備來阻止氣流的對流，與生產無關的人員不行進入無塵車間。

❿ 為什麼潔凈室要控制濕度

對濕度是潔凈室運作過程中一個常用的環境控制條件。半導體潔凈室中相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內，例如光刻區──或者在遠紫外線處理（DUV）區甚至更小──而在其他地方則可以放鬆到±5%的范圍內。
因為相對濕度有一系列可能使潔凈室總體表現下降的因素，其中包括：
● 細菌生長；
● 工作人員感到室溫舒適的范圍；
● 出現靜電荷；
● 金屬腐蝕；
● 水汽冷凝；
● 光刻的退化；
● 吸水性。
細菌和其他生物污染（黴菌，病毒，真菌，蟎蟲）在相對濕度超過60%的環境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對濕度超過30%時就可以增長。在相對濕度處於40%至60%的范圍之間時，可以使細菌的影響以及呼吸道感染降至最低。
相對濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。濕度過高會使人覺得氣悶，而濕度低於30%則會讓人感覺乾燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快。
高濕度實際上減小了潔凈室表面的靜電荷積累──這是人們希望的結果。較低的濕度比較適合電荷的積累並成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當相對濕度超過50%時，靜電荷開始迅速消散，但是當相對濕度小於30%時，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續存在很長一段時間。
相對濕度在35%到40%之間可以作為一個令人滿意的折中，半導體潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。
很多化學反應的速度，包括腐蝕過程，將隨著相對濕度的增高而加快。所有暴露在潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當這些表面是由可以與水反應的薄金屬塗層組成時，高濕度可以使反應加速。幸運的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護型的氧化物，並阻止進一步的氧化反應；但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護能力的，因此，在高濕度的環境中，銅製表面更容易受到腐蝕。
此外，在高的相對濕度環境下，由於水分的吸收，使烘烤循環後光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對濕度的負面影響；較低的相對濕度（約30%）使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑。
在半導體潔凈室中控制相對濕度不是隨意的。但是，隨著時間的變化，最好回顧一下常見的被普遍接受的實踐的原因和基礎。