粵芯半導體購買什麼光刻機

❶ 中芯國際向荷蘭巨頭采購77億設備，為何光刻機對生產晶元極其重要

沒有光刻機，就製造不出晶元。

據最新報道，在3月3日，中芯國際稱公司已與荷蘭阿斯麥簽署了一份價值12億美元，約77.5億元人民幣的購買單。伴隨著中國層出不窮的晶元安全問題，光刻機也日益成為了業界的焦點。

一般來說，晶元的性能和晶體管的密度存在很大的聯系，在同樣面積的情況下，晶體管越多，也就是晶體管線寬越小，晶元的性能就相應的越強。我們常聽到幾納米的工藝技術，其中的納米對應的就是晶體管的線寬。

❷ 中國買家大量采購二手半導體設備，目前半導體行業發展前景有何困境

1、首先看設計，華為海思和紫光展銳分列國內前兩名。目前，兩家公司在不少領域已是世界領先水平，但一個巨大的問題是，其架構授權的核心都被外人掌握。

目前，國內僅有中科院的龍芯和總參謀部的申威擁有自主架構，前者用於北斗導航，後者用於神威超級計算機，民用領域基本是空白。

2、設備和材料是又一大短板。製造晶元的三大設備光刻機、蝕刻機和薄膜沉積，國內僅中微半導體的介質蝕刻機能跟上行業節奏，其7納米設備已入圍台積電名單。

總的來說，二手市場正成為中企從海外供應商處找到轉機的良方，受此助力，我國晶元行業的研發進展也有望踏上新的台階。

❸ 光刻機是干什麼用的，工作原理是什麼

一、用途

光刻機是晶元製造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶元的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。

用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶元生產的設備。

二、工作原理

在加工晶元的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。

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光刻機的結構：

1、測量台、曝光台：是承載矽片的工作台。

2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。

3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

4、能量控制器：控制最終照射到矽片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。

5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。

6、遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到矽片。

7、能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，並反饋給能量控制器進行調整。

8、掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。

9、掩膜台：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。

10、物鏡：物鏡用來補償光學誤差，並將線路圖等比例縮小。

11、矽片：用硅晶製成的圓片。矽片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由於矽片是圓的，所以需要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的坐標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、 notch。

12、內部封閉框架、減振器：將工作台與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，並維持穩定的溫度、壓力。

❹ 想買一台光刻機，誰知道什麼牌子的好呢

我是在半導體商城上找到了很多光刻機的介紹，你可以去看下。

❺ 光刻機 是干什麼用的 重要嗎 能國產嗎

在現在的各種各來樣自的電子產品中，晶元可以說是最重要的零件，而光刻機就是晶元製造的核心設備之一。

按照用途可以分為好幾種，用於生產晶元；用於封裝；用於LED製造領域。

用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

❻ 光刻機是干什麼用的

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝專備。它採用類似屬照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。

高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，解析度通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一台的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。

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2019年與2020年在半導體領域，尤其是企業之間，光刻機是被炒得最熱的一個話題，再怎麼說晶元，最終都會說到光刻機上面去。

可能出口給我們DUV光刻機生產7nm的晶元，卻將最先進的EUV光刻機出口給別的企業生產5nm晶元，即使不專門生產晶元的谷歌、高通，ASML也賣他們EUV光刻機。

❼ 光刻機與半導體激光隱形晶圓切割機有什麼不同

把它們進行一些結論，原來情況幾個有什麼不同，她們區別很大的，他們一個勁東西都不

❽ 上海微電子裝備的光刻機能達到什麼水平

600系列光刻機——IC前道製造基於先進的掃描光刻機平台技術，提供覆蓋前道IC製造90nm節點以上大規模生產所需，包含90nm、130nm和280nm等不同解析度節點要求的ArF、KrF及i-line步進掃描投影光刻機。該系列光刻機可兼容200mm和300mm矽片。

500系列光刻機——IC後道、MEMS製造
基於先進的步進光刻機平台技術，提供覆蓋後道IC封裝、MEMS/NEMS製造的步進投影光刻機。該系列光刻機採用ghi線的高功率汞燈作為曝光光源，其先進的逐場調焦調平技術對薄膠和厚膠工藝，以及3D-TSV結構等具有良好的自動適應性，並通過採用具有專利的圖像智能識別技術，無需專門設計特殊對准標記。該系列設備具有高解析度、高套刻精度和高生產率等一系列優點，可滿足用戶對設備高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生產需求。

300系列光刻機——LED/MEMS/Power Devices製造
300系列光刻機面向亞微米2-6英寸晶圓的光刻市場需求，支持亞微米節點條件下的各種半導體光刻製程，特別包括LED圖形化藍寶石襯底生產工藝、LED晶元電極曝光、MEMS和Power Devices生產工藝。

200系列光刻機—AM-OLED顯示屏製造
200系列投影光刻機綜合採用先進的步進光刻機平台技術和掃描光刻機平台技術，專用於新一代AM-OLED顯示屏的TFT電路製造。該系列光刻機不僅可用於基板尺寸為200mm × 200mm的工藝研發線，也可用於基板尺寸為 G2.5(370mm × 470mm)到G5.5(1300mm × 1500mm)的AM-OLED顯示屏量產線。

❾ 生產砷化鎵半導體晶元要光刻機嗎

任何晶元製造過程中都要經過光顯和蝕刻又稱光刻，也必要使用各種光刻機，包括砷化鎵光刻設備。

❿ 哪些半導體公司用ASML光刻機

很多~我知道先進半導體，新進半導體，華虹，中芯國際都用，其他的場沒有去看過就不清楚了~