光刻機和半導體有什麼關系

1. 俄羅斯為什麼不擔心晶元和光刻機的問題

2. 光刻機是晶元製造的關鍵，現在中國有哪些企業在研究光刻機

國內光刻機技術比較先進，已經量產的應該是上海微電子裝備有限責任公司（簡稱SMEE)，已經實現90nm的量產，目前正在研究65nm的工藝。

其他的包括 合肥芯碩半導體有限公司、先騰光電科技有限公司、無錫影速半導體科技有限公司等一些企業，在光刻機上衣和有自己的成果。

但這些光刻機企業，目前還是在原來的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未來也能達到很高的水平。但對於光刻機行業來說，他們的追趕速度雖然很快，但技術進步的速度也是很快。所以，他們只能持續在低端方面，佔有一定的市場份額。

也就是中國科學院光電技術研究所的這個成果，直接將中國光刻機技術向前推進好幾代。當然，這個科研成果，距離完整實現量產，還有好幾個關卡要過。

首先是光刻分辨力達到22納米只是一次極限測試，屬於單次曝光，還製造不了晶元。其次是，能夠實驗室製造晶元，還要實現量產，這又是一個關卡。但總的來說，已經有了「光刻分辨力達到22納米」，那麼距離成型機，已經沒有那麼遙遠了。

3. 光刻機是干什麼用的，工作原理是什麼

一、用途

光刻機是晶元製造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶元的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。

用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶元生產的設備。

二、工作原理

在加工晶元的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對准曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的晶元可以繼續塗膠、曝光。越復雜的晶元，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。

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光刻機的結構：

1、測量台、曝光台：是承載矽片的工作台。

2、激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。

3、光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。

4、能量控制器：控制最終照射到矽片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。

5、光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。

6、遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到矽片。

7、能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，並反饋給能量控制器進行調整。

8、掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。

9、掩膜台：承載掩模版運動的設備，運動控制精度是nm級的。

10、物鏡：物鏡用來補償光學誤差，並將線路圖等比例縮小。

11、矽片：用硅晶製成的圓片。矽片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由於矽片是圓的，所以需要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的坐標系，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、 notch。

12、內部封閉框架、減振器：將工作台與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，並維持穩定的溫度、壓力。

4. 光刻機和刻蝕機的區別

1、工藝不同：刻蝕機是將矽片上多餘的部分腐蝕掉，光刻機是將圖形刻到矽片上版。

2、難度權不同：光刻機的難度和精度大於刻蝕機。

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等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式。

其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行乾式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室。氣體被導入並與等離子體進行交換。

等離子體在工件表面發生反應，反應的揮發性副產物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應性等離子工藝。

5. 電子封裝技術與光刻機有關嗎

電子封裝技術的話和光刻機的話是沒有任何關系的，光刻機的話，是在晶元的製作過程中才有關系的

6. 光刻機和晶元有什麼關系，為什麼沒有光刻機就製造不了晶元

光刻機是製造晶元的基礎。

其實，大多數人認為，晶元技術是綜合性水平較高的技術，而光刻機就把“尖刀”，刺在心口，晶元是命，光刻機是防護的存在。但是，我國因為光刻機的限制，對於我們來說，沒有光刻機，就警惕晶元帶來的危機。那麼，製造晶元製造難嗎？光刻機和晶元有什麼關系，為什麼沒有光刻機就製造不了晶元？

晶元的步驟中，缺乏光刻機。包括EDA相關的設計軟體；日本美國的光刻膠，塗膠顯影機，光刻機，以及離子注入機都是關鍵所在。

7. 光刻機 是干什麼用的 重要嗎 能國產嗎

在現在的各種各來樣自的電子產品中，晶元可以說是最重要的零件，而光刻機就是晶元製造的核心設備之一。

按照用途可以分為好幾種，用於生產晶元；用於封裝；用於LED製造領域。

用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

8. 光刻機是晶元製造的關鍵，現在在中國有哪些企業能夠研製光刻機

光刻機是晶元製造的關鍵設備，我國投入研發的公司有微電子裝備(集團)股份，長春光機所，中國科學院等都在研發，合肥芯碩半導體有限公司，先騰光電科技有限公司，先騰光電科技有限公司， 合肥芯碩半導體有限公司都有研發以及製造。而且有了一定的科研成果，但是目前我國高端晶元的製造卻主要依賴荷蘭進口的光刻機。我國光刻機在不斷發展但是與國際三巨頭尼康佳能（中高端光刻機市場已基本沒落）ASML（中高端市場近乎壟斷）比差距很大。

合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月,是國內首家半導體直寫光刻設備製造商。該公司自主研發的ATD4000,已經實現最高200nm的量產。

無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。

先騰光電成立於2013年4月,已經實現最高200nm的量產,在2014國際半導體設備及材料展覽會上,先騰光電亮出了完全自主知識產權的LED光刻機生產技術,震驚四座。

9. 晶圓廠與光刻機製造商的關系是怎麼一回事

光刻機是晶圓廠的生產設備

10. 從敗走光刻機到集體造假，日本半導體到底在干什麼

去年6月1日，日本半導體最後的巨頭東芝為了彌補其核電業務及經營不善帶來的巨額虧損，出售旗下半導體公司（TMC）給貝恩資本牽頭的日美韓財團組建的收購公司Pangea。日媒稱該事件為，日本半導體最後要塞的失守。

60年代後半期，日本半導體技術者開始活躍在半導體國際會議上，已經實現了技術積累的日本公司開始嘗試獨自開發。而在70年代初，IBM宣布在大型計算機中使用半導體存儲器取代磁芯，半導體中重要的DRAM晶元成為潛力巨大的市場，美國也開始拒絕向日本提供IC集成電路，並且強迫日本實現IC輸入的完全自由化。此時，日本政府不僅舊有的半導體量產面臨危機，而且IBM的新時代高性能計算機的開發也讓日本政府恐懼。這讓日本一蹶不振，一直在原地不動。