哪些高校有半導體潔凈室

A. 半導體工廠往往是潔凈室但成本太高，想問下有沒有什麼廉價的清潔控制方法可以使空氣中的顆粒灰塵大幅度減

照著潔凈室的要求去做一些規范吧，
不一定要潔凈室的全部設備的，

有些工廠有很好的內設備容，可是工人素質跟不上，室內環境還是很差，落塵度很高。

盡可能的隔離室內環境，使用空氣交換過濾設備，地板上蠟，多使用粘塵布，工人使用防靜電服裝並盡量保持干凈，操作動作要小，戴口罩頭套，設備的銹跡和油漆沫都要小心清理。
另外產品在加工過程中一般都要吹等離子風扇，去靜電的，產品帶靜電的話容易粘塵，影響很大。室內濕度也要控制。

「負離子空氣凈化器」這種東西是生活電器，功率很小，指標很低，是滿足不了工業環境的需求的。工業中用的是那種設備類似於大空調。

樓主你要改善的話應該從成本低和易於實現的開始實行，直到目標達成為止。

B. 半導體製造潔凈廠房對溫度，濕度有要求，一般是溫度22~28 濕度45~60.我想問下為什麼

主要有兩個方面的原因：一是保證半導體表面的清潔度，以免水汽等的沾污；二是工藝要求，要保證半導體表面乾燥，以免塗膠時產生膠膜脫落等。

C. 加工半導體零件需要多少級潔凈室

半導體集成電路要求的空氣潔凈度凈化等級：
集成電路生產環境要求的空氣潔內凈度等級主容要取決於集成電路的集成度，中山科瓦特機電有限公司針對不同工序的空氣潔凈度等級是依據可能污染的概率和對器件的潛在故障確定的。

舉例說明：
例一、某廠集成電路前工序潔凈廠房，無塵車間設計按加工、生產6英寸矽片、1M集成電路，圖形特形尺雨1.0um，控制粒子粒徑0..1um.

無塵車間空氣潔凈度等級要求：
光刻、勻膠區 ISO 3級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等操作區 ISO 3級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等維修區 ISO 5級

例二、某廠集成電路前工序潔凈廠房，無塵車間設計按加工、生產5英寸矽片、256K集成電路、圖形特形尺雨2.0um，控制粒子粒徑0.2um.

無塵車間空氣潔凈度等級要求：
光刻、勻膠區 ISO 3級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等操作區 ISO 4級
離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等維修區 ISO 6級
以上是科瓦特潔凈室為您提供的潔凈資訊，

D. 半導體潔凈車間適合用哪種滅火系統

半導體的車間有不同潔凈等級:class 再依潔凈度分1,10,100,1000,10000 從這方面來分過濾系統就不只是計算幾套而已，還要注意細節和潔凈能力;

E. 集成電路半導體車間工廠需要布置無塵車間

集成電路無塵車間是為了滿足半導體製造工藝需求的潔凈室，該無塵車間對環境潔凈度、溫濕度、振動、ESD、AMC控制等都有一定的要求。相對於其他工業潔凈室，集成電路製造無塵車間有面積大、潔凈等級高、溫濕度控制精度高等特點。

遠程在線式遙測激光塵埃粒子計數器是幾乎每個精密電子車間必不可少的設備，如果在我們的半導體車間中有這樣一種監測顆粒濃度的儀器，那麼我們在辦公室時就可以輕鬆了解車間中塵埃粒子情況，實現產品生產與監督智造的智能體驗。例如，當我們檢測到車間內的顆粒濃度過高時，我們可以及時通知相應車間的負責人，並採取針對性的措施降低顆粒濃度，以達到安全可靠的標准，這非常有利於產品的安全生產，為客戶提供可靠的高質量產品。

CW-RPC系列遠程遙測激光塵埃粒子計數器是深圳賽納威研發的智能多點凈化檢測系統的終端設備，不僅可以為用戶提供實時准確地遠程測量所監控環境的微粒數量和凈化等級，根據不同需要增加或減少控制終端，還可以實現7*24實時遠程自動監測，通過RJ45網路介面、WiFi、485（moudbus）等，將數據送給PC終端，顯示當前監測環境的潔凈狀況。該粒子計數器按照國際標准ISO14644-1,GMP和日本工業標准（JIS）要求標定，專業應用於電子行業、制葯車間、半導體、光學或精密機械加工等潔凈室環境自動監測系統。

F. tft半導體cf車間潔凈度是多少

因為電容的原故！
TFT-LCD液晶顯示器的工作原理與TN-LCD卻有許多不同之處。TFT-LCD液晶顯示器的專顯像原理是採用「屬背透式」照射方式。當光源照射時，先通過下偏光板向上透出，藉助液晶分子來傳導光線。由於上下夾層的電極改成FET電極和共通電極，在FET電極導通時，液晶分子的排列狀態同樣會發生改變，也通過遮光和透光來達到顯示的目的。但不同的是，由於FET晶體管具有電容效應，能夠保持電位狀態，先前透光的液晶分子會一直保持這種狀態，直到FET電極下一次再加電改變其排列方式為止。

G. 半導體潔凈室

半導體無塵室安全工作規范
一、無塵室須知
進入無塵室前，必須知會管理人，並通過基本訓練
2.進入無塵室嚴禁吸煙，吃(飲)食，外來雜物(如報章，雜志，鉛筆...等)不可攜入，並嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。
3.進入無塵室前，需在規定之處所脫鞋，將鞋置於鞋櫃內，外衣置於衣櫃內，私人物品置於私人櫃內，櫃內不可放置食物。
4.進入無塵室須先在更衣室，將口罩，無塵帽，無塵衣以及鞋套按規定依程序穿戴整齊，再經空氣洗塵室洗塵，並踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。
5.戴口罩時，應將口罩戴在鼻子之上，以將口鼻孔蓋住為原則，以免呼吸時污染晶元。
6. 穿著無塵衣，無塵帽前應顯畸理服裝以及頭發，以免著上無塵衣後，不得整理又感不適。
7. 整肅儀容後，先戴無塵帽，無塵帽的穿戴原則是
(1)頭發必須完全覆蓋在帽內，不得外露。
（2）無塵帽之下擺要平散於兩肩之上，穿上工作衣後，方不致下擺脫出，裸露肩頸部。
8.無塵帽戴妥後，再著無塵衣，無塵衣應尺吋合宜，才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞，穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態，無塵衣不可反穿。
9.穿著無塵衣後，才著鞋套，拉上鞋套並將鞋套整平，確實蓋在褲管之上。
10戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染)，戴上手套後，應將手套之手腕置於衣袖內，以隔絕污染源。
11.無塵衣著妥後，經洗塵，並踩踏除塵毯，方得進入無塵室。
12. 不論進入或離開無塵室，須按規定在更衣室脫無塵衣，不可在其它區域為之，尤不可在無塵室內邊走邊脫。
13. 無塵衣，鞋套等，應定期清洗，有破損，脫線時，應即換新。
14. 脫下無塵衣時，其順序與穿著時相反。
15. 脫下之無塵衣應吊好，並放於更衣室內上層櫃子中;鞋套應放置於吊好的無塵衣下方。
16. 更衣室內小櫃中，除了放置無塵衣等規定物品外，不得放置其它物品。
17. 除規定紙張及物品外，其它物品一概不得攜入無塵室。
18。無塵衣等不得攜出無塵室，用畢放置於規定處所。
19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重復使用。
20. 任何東西進入無塵室，必須用灑精擦拭乾凈。
21. 任何設備的進入，請知會管理人，在無塵室外擦拭乾凈，方可進入。
22. 未通過考核之儀器，禁止使用，若遇緊急情況，得依緊急處理步驟作適當處理，例如關閉水、電、氣體等開關。
23.無塵室內絕對不可動火，以免發生意外。
二、無塵室操作須知
1.處理晶元時，必須戴上無纖維手套，使用清洗過的干凈鑷子挾持晶元，請勿以手指或其它任何東西接觸晶元，遭碰觸污染過的晶元須經清洗，方得繼續使用：
(1)任何一支鑷子前端(即挾持晶元端)如被碰觸過，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。
(2) 晶元清洗後進行下一程序前，若被手指碰觸過，必須重新清洗。
(3) 把晶元放置於石英舟上，准備進爐管時，若發現所用鑷子有污損現象或晶元上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將晶元重新清洗，並立即更換干凈的鑷子使用。
2. 晶元必須放置盒中，蓋起來存放於規定位置，盡可能不讓它暴露。
3.避免在晶元上談話，以防止唾液濺於晶元上，在晶元進擴散爐前，請特別注意，防止上述動作產生，若晶元上沾有纖維屑時，用氮氣槍噴之。
4. 從石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上，取出晶元時，必須垂直向上挾起，避免刮傷晶元，顯微鏡鏡頭確已離晶元，方可從吸座上移走晶元。
5. 晶元上，若已長上氧化層，在送黃光室前切勿用鑽石刀在晶元上刻記。
6. 操作時，不論是否戴上手套，手絕不能放進清洗水槽。
7.使用化學站或烤箱處理晶元時，務必將晶元置放入晶舟內，不可使用塑料盒。
8.擺置晶元於石英舟時，若晶元掉落地上或手中則必須重新清洗晶元，然後再進氧化爐。
9. 請勿觸摸晶元盒內部，如被碰觸或有碎晶元污染，必須重作清洗。
10.手套，廢紙及其它雜碎東西，請勿留置於操作台，手套若燒焦、磨破或纖維質變多必須換新。
11.非經指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。
12. 奇怪的味道或反應異常的溶液，顏色，聲響等請即通知相關人員。
13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時，務必立刻告知負責人員或老師。
14. 晶元盒進出無塵室須保持干凈，並以保鮮膜封裝，違者不得進入。
15. 無塵室內一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。三、黃光區操作須知
1.濕度及溫度會影響對准工作，在黃光區應注意溫度及濕度，並應減少對准機附近的人，以減少濕、溫度的變化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之晶元，不得攜出黃光區以免感光.
3.己上妥光阻，而在等待對准曝光之晶元，應放置於不透明之藍黑色晶盒之內， 盒蓋必須蓋妥。
4. 光罩使用時應持取邊緣，不得觸及光罩面，任何狀況之下，光罩鉻膜不得與他物接觸，以防刮傷，光罩之落塵可以氮氣槍吹之。