为什么半导体制程需要洁净室

❶ 半导体洁净室

半导体无尘室安全工作规范
一、无尘室须知
进入无尘室前，必须知会管理人，并通过基本训练
2.进入无尘室严禁吸烟，吃(饮)食，外来杂物(如报章，杂志，铅笔...等)不可携入，并严禁嘻闹奔跑及团聚谈天。
3.进入无尘室前，需在规定之处所脱鞋，将鞋置于鞋柜内，外衣置于衣柜内，私人物品置于私人柜内，柜内不可放置食物。
4.进入无尘室须先在更衣室，将口罩，无尘帽，无尘衣以及鞋套按规定依程序穿戴整齐，再经空气洗尘室洗尘，并踩踏除尘地毯(洗尘室地板上)方得进入。
5.戴口罩时，应将口罩戴在鼻子之上，以将口鼻孔盖住为原则，以免呼吸时污染芯片。
6. 穿著无尘衣，无尘帽前应显畸理服装以及头发，以免着上无尘衣后，不得整理又感不适。
7. 整肃仪容后，先戴无尘帽，无尘帽的穿戴原则是
(1)头发必须完全覆盖在帽内，不得外露。
（2）无尘帽之下摆要平散于两肩之上，穿上工作衣后，方不致下摆脱出，裸露肩颈部。
8.无尘帽戴妥后，再着无尘衣，无尘衣应尺吋合宜，才不致有裤管或衣袖太短而裸露皮肤之虞，穿衣时应注意帽之下摆应保平整之状态，无尘衣不可反穿。
9.穿著无尘衣后，才着鞋套，拉上鞋套并将鞋套整平，确实盖在裤管之上。
10戴手套时应避免以光手碰触手套之手掌及指尖处(防止钠离子污染)，戴上手套后，应将手套之手腕置于衣袖内，以隔绝污染源。
11.无尘衣着妥后，经洗尘，并踩踏除尘毯，方得进入无尘室。
12. 不论进入或离开无尘室，须按规定在更衣室脱无尘衣，不可在其它区域为之，尤不可在无尘室内边走边脱。
13. 无尘衣，鞋套等，应定期清洗，有破损，脱线时，应即换新。
14. 脱下无尘衣时，其顺序与穿著时相反。
15. 脱下之无尘衣应吊好，并放于更衣室内上层柜子中;鞋套应放置于吊好的无尘衣下方。
16. 更衣室内小柜中，除了放置无尘衣等规定物品外，不得放置其它物品。
17. 除规定纸张及物品外，其它物品一概不得携入无尘室。
18。无尘衣等不得携出无尘室，用毕放置于规定处所。
19. 口罩与手套可视状况自行保管或重复使用。
20. 任何东西进入无尘室，必须用洒精擦拭干净。
21. 任何设备的进入，请知会管理人，在无尘室外擦拭干净，方可进入。
22. 未通过考核之仪器，禁止使用，若遇紧急情况，得依紧急处理步骤作适当处理，例如关闭水、电、气体等开关。
23.无尘室内绝对不可动火，以免发生意外。
二、无尘室操作须知
1.处理芯片时，必须戴上无纤维手套，使用清洗过的干净镊子挟持芯片，请勿以手指或其它任何东西接触芯片，遭碰触污染过的芯片须经清洗，方得继续使用：
(1)任何一支镊子前端(即挟持芯片端)如被碰触过，或是镊子掉落地上，必须拿去清洗请勿用纸巾或布擦拭脏镊子。
(2) 芯片清洗后进行下一程序前，若被手指碰触过，必须重新清洗。
(3) 把芯片放置于石英舟上，准备进炉管时，若发现所用镊子有污损现象或芯片上有显眼由镊子所引起的污染，必须将芯片重新清洗，并立即更换干净的镊子使用。
2. 芯片必须放置盒中，盖起来存放于规定位置，尽可能不让它暴露。
3.避免在芯片上谈话，以防止唾液溅于芯片上，在芯片进扩散炉前，请特别注意，防止上述动作产生，若芯片上沾有纤维屑时，用氮气枪喷之。
4. 从石英舟(Quartz Boat)等载具(Carrier)上，取出芯片时，必须垂直向上挟起，避免刮伤芯片，显微镜镜头确已离芯片，方可从吸座上移走芯片。
5. 芯片上，若已长上氧化层，在送黄光室前切勿用钻石刀在芯片上刻记。
6. 操作时，不论是否戴上手套，手绝不能放进清洗水槽。
7.使用化学站或烤箱处理芯片时，务必将芯片置放入晶舟内，不可使用塑料盒。
8.摆置芯片于石英舟时，若芯片掉落地上或手中则必须重新清洗芯片，然后再进氧化炉。
9. 请勿触摸芯片盒内部，如被碰触或有碎芯片污染，必须重作清洗。
10.手套，废纸及其它杂碎东西，请勿留置于操作台，手套若烧焦、磨破或纤维质变多必须换新。
11.非经指示，绝不可开启不熟悉的仪器及各种开关阀控制钮或把手。
12. 奇怪的味道或反应异常的溶液，颜色，声响等请即通知相关人员。
13. 仪器因操作错误而有任何损坏时，务必立刻告知负责人员或老师。
14. 芯片盒进出无尘室须保持干净，并以保鲜膜封装，违者不得进入。
15. 无尘室内一律使用原子笔及无尘笔记本做记录，一般纸张与铅笔不得携入。三、黄光区操作须知
1.湿度及温度会影响对准工作，在黄光区应注意温度及湿度，并应减少对准机附近的人，以减少湿、温度的变化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之芯片，不得携出黄光区以免感光.
3.己上妥光阻，而在等待对准曝光之芯片，应放置于不透明之蓝黑色晶盒之内， 盒盖必须盖妥。
4. 光罩使用时应持取边缘，不得触及光罩面，任何状况之下，光罩铬膜不得与他物接触，以防刮伤，光罩之落尘可以氮气枪吹之。

❷ 洁净室是什么啊

洁净室=Clearning Room

洁净室就是洁净室。但现在给洁净室赋予了特殊的含义，国际版标准化组权织（ISO）的14644-1标准对洁净室是这样说明的：该洁净室的悬浮粒子浓度受控，其建造和使用方式是使进入、产生、滞留于室内的粒子最少；室内其他参数，比如温度、湿度、气压、按需要受控。该定义的前半部分基本上说明什么是洁净，这是一个使粒子的进入、产生、滞留最少化的房间。要实现这一点，首先，要对极大量的送风经高效过滤器过滤。这种送风的目的在于：（1）稀释并清除室内人员和设备散发出的粒子和细菌；（2）向房间加压，确保脏空气不会流入洁净室。其次，洁净室的建筑材料不产生粒子且便于清洁。最后，洁净室人员使用服装罩住身体，使他们散发的粒子和微生物最少。这些措施及其他使用洁净室引入、产生、滞留的污染降至最少的类拟措施。洁净室还可以控制温度、湿度、声音、照明、振动。但这些特性并非洁净室所专有。

❸ 半导体车间工作对身体有害吗

四个不会损害身体的原则:1.依规定完整穿着工衣护具;2.依规章操作; 3.按作息时间进出车间;4.定期身体检查;
守住以上原则，半导体车间工作就不会损害身体;

❹ 洁净车间为什么要分级

洁净车间的等级要以生产产品的要求而定。
洁净室可分为两大类：
工业洁净室
以无生命微粒的控制为对象。主要控制空气尘埃微粒对工作对象的污染，内部一般保持正压状态。 它适用于精密机械工业、电子工业（半导体、集成电路等）宇航工业、高纯度化学工业、原子能工业、光磁产品工业（光盘、胶片、磁带生产）LCD（液晶玻璃）、电脑硬盘、电脑磁头生产等多行业。
生物洁净室
主要控制有生命微粒（细菌）与无生命微粒（尘埃）对工作对象的污染。又可分为： A、 一般生物洁净室：主要控制微生物（细菌）对象的污染。同时其内部材料要能经受各种灭菌剂侵蚀，内部一般保证正压。实质上其内部材料要能经受各种灭菌处理的工业洁净室。例：制药工业、医院（手术室、无菌病房）食品、化妆品、饮料产品生产、动物实验室、理化检验室、血站等。
B、 生物学安全洁净室：主要控制工作对象的有生命微粒对外界和人的污染。内部要保持与大气的负压。例：细菌学、生物学、洁净实验室、物物工程（重组基因、疫苗制备）

❺ 半导体制造洁净厂房对温度，湿度有要求，一般是温度22~28 湿度45~60.我想问下为什么

主要有两个方面的原因：一是保证半导体表面的清洁度，以免水汽等的沾污；二是工艺要求，要保证半导体表面干燥，以免涂胶时产生胶膜脱落等。

❻ 洁净室为什么有白光区和黄光区

洁净室有白光区和黄光区是为了人的视觉舒适以及更好的生产产品综合考虑的。
适当提高洁净厂房的人工照明照度水平，提高工作人员的视觉卫生，促进国民经济的发展都是有利的。目前国家正在制定《工业和民用建筑照明设计标准》，新规范中的照度标准将有较大的提高。不过考虑到生产车间的明暗适应，洁净厂房的走道、休息室的照度与工作时的照度等级不能相差太大，一般相差1~2个等级较合适，但最低不能低于100 1x。有窗洁净厂房的标准与普通生产厂房一样按现行国家标准《工业企业照明设计标准》GB50034-92执行。
不同的洁净工业厂房照度按工艺要求的不同也有较大的差异，如显像管工厂的电子枪装配车间混合照明的照度要达到1000~3000 1x，除设置一般照明外，还需设置局部照明，局部照明占混合照明照度的比例不能太大，一般照明照度为混合照明照度的5~15%。我国由于电力较紧张扩大了局部照明在混合照明中的照度比例。如果空间照度低，容易产生眩光，使人感到疲劳，但光源亮度不能太高，常选用荧光灯等线状光源或带磨砂玻璃的白炽灯。
其次，洁净厂房中对光源有特殊要求的车间，如：显像管厂的荧光粉涂敷间、半导体厂房中的光刻间，为了防止感光材料的感光，必须使用黄色或红色光源的，应满足其特殊要求选用黄色荧光灯管或低压钠灯，黄色荧光灯管也有两种，一种为灯管内壁涂黄色荧光粉；另一种为白色荧光灯管外套黄色塑料套管，他们的光通量比一般荧光灯都要低。

❼ 加工半导体零件需要多少级洁净室

半导体集成电路要求的空气洁净度净化等级：
集成电路生产环境要求的空气洁内净度等级主容要取决于集成电路的集成度，中山科瓦特机电有限公司针对不同工序的空气洁净度等级是依据可能污染的概率和对器件的潜在故障确定的。

举例说明：
例一、某厂集成电路前工序洁净厂房，无尘车间设计按加工、生产6英寸硅片、1M集成电路，图形特形尺雨1.0um，控制粒子粒径0..1um.

无尘车间空气洁净度等级要求：
光刻、匀胶区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等操作区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等维修区 ISO 5级

例二、某厂集成电路前工序洁净厂房，无尘车间设计按加工、生产5英寸硅片、256K集成电路、图形特形尺雨2.0um，控制粒子粒径0.2um.

无尘车间空气洁净度等级要求：
光刻、匀胶区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等操作区 ISO 4级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等维修区 ISO 6级
以上是科瓦特洁净室为您提供的洁净资讯，

❽ 集成电路半导体车间工厂需要布置无尘车间

集成电路无尘车间是为了满足半导体制造工艺需求的洁净室，该无尘车间对环境洁净度、温湿度、振动、ESD、AMC控制等都有一定的要求。相对于其他工业洁净室，集成电路制造无尘车间有面积大、洁净等级高、温湿度控制精度高等特点。

远程在线式遥测激光尘埃粒子计数器是几乎每个精密电子车间必不可少的设备，如果在我们的半导体车间中有这样一种监测颗粒浓度的仪器，那么我们在办公室时就可以轻松了解车间中尘埃粒子情况，实现产品生产与监督智造的智能体验。例如，当我们检测到车间内的颗粒浓度过高时，我们可以及时通知相应车间的负责人，并采取针对性的措施降低颗粒浓度，以达到安全可靠的标准，这非常有利于产品的安全生产，为客户提供可靠的高质量产品。

CW-RPC系列远程遥测激光尘埃粒子计数器是深圳赛纳威研发的智能多点净化检测系统的终端设备，不仅可以为用户提供实时准确地远程测量所监控环境的微粒数量和净化等级，根据不同需要增加或减少控制终端，还可以实现7*24实时远程自动监测，通过RJ45网络接口、WiFi、485（moudbus）等，将数据送给PC终端，显示当前监测环境的洁净状况。该粒子计数器按照国际标准ISO14644-1,GMP和日本工业标准（JIS）要求标定，专业应用于电子行业、制药车间、半导体、光学或精密机械加工等洁净室环境自动监测系统。

❾ 无尘车间（洁净室）是依据什么划分净化等级

无尘车间（洁净室）等级大体可以分为十万级、万级、千级、百版级、十级。数字越小，洁权净等级越高。

10级的洁净室净化工程主要用于带宽小于2微米的半导体工业。百级洁净室可用于医药工业的无菌制造工艺等，这一洁净室净化工程大量应用于，手术室，包括移植手术，集成器的制造、隔离病房等等。

(9)为什么半导体制程需要洁净室扩展阅读：

注意事项：

注意控制污染源，主要是人和进入无尘车间的物品，以及生产过程中发生的尘粒。

人净路线和物净路线要合理的分开。人员在进车间前沐浴更衣，着装符合洁净标准;物料在进车间前更换包装吹淋，确保洁净度符合要求。

无尘净化车间内的作业人员要严格按照无尘室的操作规则进行工作。门窗应处于关闭状态，车间之间人员和物品的传递应有缓冲区，并设置吹林设备来阻止气流的对流，与生产无关的人员不行进入无尘车间。

❿ 为什么洁净室要控制湿度

对湿度是洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体洁净室中相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区──或者在远紫外线处理（DUV）区甚至更小──而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。
因为相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括：
● 细菌生长；
● 工作人员感到室温舒适的范围；
● 出现静电荷；
● 金属腐蚀；
● 水汽冷凝；
● 光刻的退化；
● 吸水性。
细菌和其他生物污染（霉菌，病毒，真菌，螨虫）在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长。在相对湿度处于40%至60%的范围之间时，可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至最低。
相对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉舒适的适度范围。湿度过高会使人觉得气闷，而湿度低于30%则会让人感觉干燥，皮肤皲裂，呼吸道不适以及情感上的不快。
高湿度实际上减小了洁净室表面的静电荷积累──这是人们希望的结果。较低的湿度比较适合电荷的积累并成为潜在的具有破坏性的静电释放源。当相对湿度超过50%时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。
相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。
很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。
此外，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负面影响；较低的相对湿度（约30%）使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂。
在半导体洁净室中控制相对湿度不是随意的。但是，随着时间的变化，最好回顾一下常见的被普遍接受的实践的原因和基础。