cv曲线怎么分析半导体
❶ 微电子器件 比如MOS管的C-V曲线如何计算呢 为什么测量时还要加上小信号交流电压
电容的定义是电荷对电压的微分,因此C-V曲线的计算正是从Q-V曲线求导计算出来的回。实答际上MOS结构的C-V曲线测量可以分三种情况讨论,第一种就是只加直流电压信号,且电压的改变速率较小,反应在测量中就是步长较小;第二种就是在第一种所加的直流电压信号上叠加小信号的交流电压;第三种是在第二种情况下加快直流电压信号的改变速率,也就是增大电压改变的步长。这三种情况所得到的的C-V关系各不相同。第二种情况与第一种情况C-V曲线的偏离主要是因为MOS结构的反型电荷来源于热产生,而热产生需要一个特征时间,如果我逐渐延长交流小信号的周期,使得第二种请况能够变成第一种情况的C-V关系,那么我就可以得到热产生的特征时间。详细情况你可以参考施敏的《半导体器件物理》,另外还有一本专门讲MOS结构的书《MOS Physics and Technology》
❷ 请懂的人讲一下二极管PN结电容和C-V曲线怎么测,有什么具体的操作方法。谢谢。
P-N结电容包括势垒电容和扩散电容两部分:C=CT+CD
当结两端的外加电时为负(即n区为正,区接负)时,由于P区、n区的少数载流子
很少,负电压的变化并不引起p区、n区中电荷有多大的变化,所以扩散电容很小,相对势
垒电容来讲,扩算电容可以忽略。即:
C=CT+CD≈CT
所以,在外加负偏压的条件下测得的P-n结电容认为是P-n结势垒电容。
势垒电容CT与势垒区厚度δ的关系同平行板电容器一样:
图中“Ug”为标准高频信号发生器;⊙为视频毫伏表;C为可变电容;Cx为待测的P-n结。
测量前首先把可变电容器旋到最大值(此值用C’表示),然后调节讯号频率,使LC回路
谐振,即“视频毫伏表”指示最大。当接上待测P-n结电容Cx时,由于Cx与可变电容C
并联,因此使谐振回路失去谐振状态,减小可变电容C到某一值(此值用C’’表示)会师谐
振回路重新谐振。显然,C’-C’’=Cx,其中C’为C调到最大值时的电容值。
这里需要指出:
1、量时需要满足小讯号条件,由于P-n结电容与外加电压的关系不是线性的,所以要测量
某一偏压V下的结电容就应该在这一偏压下加一足够的交流电压。实验中我们家的交流
电压为几mV到十几mV。
2、扣除分布电容Cs
我们用上述方法测到的Cx实际上包括了两部分,一部分是P-n结电容,另一部分是分
布电容Cs。在测得Cx后,必须扣除分布电容Cs才是真正的P-n结电容。为扣除Cs,取一
个与待测管同一类型的管壳,测量它的电容就是分布电容Cs,于是P-n结电容CT为:
CT=Cx-Cs
希望可以帮到你呵
❸ 怎样分析碱性环境下的 cv 曲线
【】标准曲线法的应用条件主要有:1、配制浓度、取样量都应该在标准曲线的线性范围内;2、尽量消除式样干扰,使其两者的组成基本一致;3、整个分析过程中,操作条件保持一致。
❹ 怎样分析循环伏安曲线,带图讲解下吧
有一些金属或合金有储氢的能力,不知道是不是跟这个有关。如果我回答的好请给我分谢谢DDDD 我最近在做CV,也有这样的像直线的情况,我的原因是电解
❺ 如何分析CV曲线
选中曲线,在origin里有个analysis-mathmatics-integrate就是积分。计算比电容我用的就是这个公式是S/(2mvU),m是质量,U是电压窗,2是只计算放电或充电电容
❻ 这个电化学CV图怎么分析
好熟悉的图案啊,当年一天扫几千圈都有
好久没见了,太久没玩了,脑筋全锈了,说错了请纠正哈
这个问题吧,有一些信息没有:NaOH的浓度,参比电极是什么
—为什么这个CV图不像以往那些有两个峰的
——你说的是亚铁氰化钾的那个S型的两个峰吧,很多电化学的CV图都不长那个样的,在高的电位下会有氧的溶出(当然这个点位得看pH值),不过这边应该是铜先溶出
这边是:高电位,发生氧化反应,铜被氧化,氢氧根会减少,
—扫了十圈,图像越来越低,这代表了什么?
——扫了十圈,电极表面发生变化,氧化铜增多,影响电极有效活性面积,电极表面的溶液组成也会发生变化,氢氧根离子被消耗,溶剂扩散速度有限(看你的扫描速率,快的话影响小)所以电流会降低
说错了请纠正哈
❼ 初入电化学,求教这个CV曲线该如何解释
这个是出现了一对氧化还原峰,而且极化现象严重,可以缩小电压区间重新测试。
具体的解释就要根据你做的东西去进行了。
还有一对峰不明显没有注意到,可以低扫速下测试看看是不是的确会出现两对峰
❽ 怎么分析OBOS曲线
OBOS曲线主要复分析如下:制
1.当OBOS曲线由下向上突破其长期压力线时,预示着大盘可能由弱势转强势,即将展开一轮中期上升行情
2.当OBOS曲线由上向下跌破其长期支撑线时,预示着大盘可能由强势转为弱势,即将展开一轮中期下跌行情
❾ 完全不懂电化学的我,求助配合物的CV曲线的测试
你的工作抄站是啥牌子的,不同品袭牌的工作站操作上有些差别。
可采用三电极体系:绿色夹子和灰色夹子(感应电极)接工作电极WE;红色夹子接(对电极/辅助电极);白色夹子接参比电极RE。
两电极体系的话没有参比电极,两电极体系:绿灰夹子连接工作电极,红白夹子连接辅助电极。
三电极体系,工作电极连接你的材料,参比电极要靠近工作电极(最好用鲁金毛细管),对电极/辅助电极一般用铂片或石墨板。
首先选择电压窗口,从-1V到+1.5V,扫面速度可以从50mV/s开始,圈数先设置个10圈.CV图形出来后,观察特征峰在哪里,把出峰位置的电压窗口记下。后面再扫CV可以把电压窗口缩小,只包含你需要的氧化还原峰即可。
电压窗口确定后,你可以调整扫描速度,比如40,30,20,10或5mV/s,峰越明显越好,扫速慢的话,电流会变小,但是小扫速下峰会很明显,不像高扫速下的大包一样。
确定扫速和电压窗口,就可以对比不同材料的CV啦。
CV曲线怎么分析,根据实际情况再说。
❿ 怎样分析二极管的伏安特性曲线
二极管的性能可用其伏安特性来描述。在二极管两端加电压U,然后测出流过二极管的电流I,电压与电流之间的关系i=f(u)即是二极管的伏安特性曲线,如图所示。
二极管伏安特性曲线如图
二极管的伏安特性表达式可以表示为式
iD=IS*(e^uD/UT-1)
其中iD为流过二极管两端的电流,uD为二极管两端的加压,UT在常温下取26mv。IS为反向饱和电流。
1、正向特性
特性曲线1的右半部分称为正向特性,由图可见,当加二极管上的正向电压较小时,正向电流小,几乎等于零。只有当二极管两端电压超过某一数值Uon时,正向电流才明显增大。将Uon称为死区电压。死区电压与二极管的材料有关。一般硅二极管的死区电压为0.5V左右,锗二极管的死区电压为0.1V左右。
当正向电压超过死区电压后,随着电压的升高,正向电流将迅速增大,电流与电压的关系基本上是一条指数曲线。由正向特性曲线可见,流过二极管的电流有较大的变化,二极管两端的电压却基本保持不变。通过在近似分析计算中,将这个电压称为开启电压。开启电压与二极管的材料有关。一般硅二极管的死区电压为0.7V左右,锗二极管的死区电压为0.2V左右。
2、反向特性
特性曲线1的左半部分称为反向特性,由图可见,当二极管加反向电压,反向电流很小,而且反向电流不再随着反向电压而增大,即达到了饱和,这个电流称为反向饱和电流,用符号IS表示。
如果反向电压继续升高,当超过UBR以后,反向电流急剧增大,这种现象称为击穿,UBR称为反向击穿电压。