粤芯半导体购买什么光刻机

❶ 中芯国际向荷兰巨头采购77亿设备，为何光刻机对生产芯片极其重要

没有光刻机，就制造不出芯片。

据最新报道，在3月3日，中芯国际称公司已与荷兰阿斯麦签署了一份价值12亿美元，约77.5亿元人民币的购买单。伴随着中国层出不穷的芯片安全问题，光刻机也日益成为了业界的焦点。

一般来说，芯片的性能和晶体管的密度存在很大的联系，在同样面积的情况下，晶体管越多，也就是晶体管线宽越小，芯片的性能就相应的越强。我们常听到几纳米的工艺技术，其中的纳米对应的就是晶体管的线宽。

❷ 中国买家大量采购二手半导体设备，目前半导体行业发展前景有何困境

1、首先看设计，华为海思和紫光展锐分列国内前两名。目前，两家公司在不少领域已是世界领先水平，但一个巨大的问题是，其架构授权的核心都被外人掌握。

目前，国内仅有中科院的龙芯和总参谋部的申威拥有自主架构，前者用于北斗导航，后者用于神威超级计算机，民用领域基本是空白。

2、设备和材料是又一大短板。制造芯片的三大设备光刻机、蚀刻机和薄膜沉积，国内仅中微半导体的介质蚀刻机能跟上行业节奏，其7纳米设备已入围台积电名单。

总的来说，二手市场正成为中企从海外供应商处找到转机的良方，受此助力，我国芯片行业的研发进展也有望踏上新的台阶。

❸ 光刻机是干什么用的，工作原理是什么

一、用途

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。

用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口，本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。

二、工作原理

在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。

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光刻机的结构：

1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。

2、激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一。

3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。

4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。

5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。

6、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。

7、能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。

8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。

9、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。

10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。

11、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、 notch。

12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。

❹ 想买一台光刻机，谁知道什么牌子的好呢

我是在半导体商城上找到了很多光刻机的介绍，你可以去看下。

❺ 光刻机 是干什么用的 重要吗 能国产吗

在现在的各种各来样自的电子产品中，芯片可以说是最重要的零件，而光刻机就是芯片制造的核心设备之一。

按照用途可以分为好几种，用于生产芯片；用于封装；用于LED制造领域。

用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

❻ 光刻机是干什么用的

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装专备。它采用类似属照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

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2019年与2020年在半导体领域，尤其是企业之间，光刻机是被炒得最热的一个话题，再怎么说芯片，最终都会说到光刻机上面去。

可能出口给我们DUV光刻机生产7nm的芯片，却将最先进的EUV光刻机出口给别的企业生产5nm芯片，即使不专门生产芯片的谷歌、高通，ASML也卖他们EUV光刻机。

❼ 光刻机与半导体激光隐形晶圆切割机有什么不同

把它们进行一些结论，原来情况几个有什么不同，她们区别很大的，他们一个劲东西都不

❽ 上海微电子装备的光刻机能达到什么水平

600系列光刻机——IC前道制造基于先进的扫描光刻机平台技术，提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

500系列光刻机——IC后道、MEMS制造
基于先进的步进光刻机平台技术，提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用ghi线的高功率汞灯作为曝光光源，其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺，以及3D-TSV结构等具有良好的自动适应性，并通过采用具有专利的图像智能识别技术，无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点，可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。

300系列光刻机——LED/MEMS/Power Devices制造
300系列光刻机面向亚微米2-6英寸晶圆的光刻市场需求，支持亚微米节点条件下的各种半导体光刻制程，特别包括LED图形化蓝宝石衬底生产工艺、LED芯片电极曝光、MEMS和Power Devices生产工艺。

200系列光刻机—AM-OLED显示屏制造
200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术，专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为 G2.5(370mm × 470mm)到G5.5(1300mm × 1500mm)的AM-OLED显示屏量产线。

❾ 生产砷化镓半导体芯片要光刻机吗

任何芯片制造过程中都要经过光显和蚀刻又称光刻，也必要使用各种光刻机，包括砷化镓光刻设备。

❿ 哪些半导体公司用ASML光刻机

很多~我知道先进半导体，新进半导体，华虹，中芯国际都用，其他的场没有去看过就不清楚了~