哪些高校有半导体洁净室

A. 半导体工厂往往是洁净室但成本太高，想问下有没有什么廉价的清洁控制方法可以使空气中的颗粒灰尘大幅度减

照着洁净室的要求去做一些规范吧，
不一定要洁净室的全部设备的，

有些工厂有很好的内设备容，可是工人素质跟不上，室内环境还是很差，落尘度很高。

尽可能的隔离室内环境，使用空气交换过滤设备，地板上蜡，多使用粘尘布，工人使用防静电服装并尽量保持干净，操作动作要小，戴口罩头套，设备的锈迹和油漆沫都要小心清理。
另外产品在加工过程中一般都要吹等离子风扇，去静电的，产品带静电的话容易粘尘，影响很大。室内湿度也要控制。

“负离子空气净化器”这种东西是生活电器，功率很小，指标很低，是满足不了工业环境的需求的。工业中用的是那种设备类似于大空调。

楼主你要改善的话应该从成本低和易于实现的开始实行，直到目标达成为止。

B. 半导体制造洁净厂房对温度，湿度有要求，一般是温度22~28 湿度45~60.我想问下为什么

主要有两个方面的原因：一是保证半导体表面的清洁度，以免水汽等的沾污；二是工艺要求，要保证半导体表面干燥，以免涂胶时产生胶膜脱落等。

C. 加工半导体零件需要多少级洁净室

半导体集成电路要求的空气洁净度净化等级：
集成电路生产环境要求的空气洁内净度等级主容要取决于集成电路的集成度，中山科瓦特机电有限公司针对不同工序的空气洁净度等级是依据可能污染的概率和对器件的潜在故障确定的。

举例说明：
例一、某厂集成电路前工序洁净厂房，无尘车间设计按加工、生产6英寸硅片、1M集成电路，图形特形尺雨1.0um，控制粒子粒径0..1um.

无尘车间空气洁净度等级要求：
光刻、匀胶区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等操作区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等维修区 ISO 5级

例二、某厂集成电路前工序洁净厂房，无尘车间设计按加工、生产5英寸硅片、256K集成电路、图形特形尺雨2.0um，控制粒子粒径0.2um.

无尘车间空气洁净度等级要求：
光刻、匀胶区 ISO 3级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等操作区 ISO 4级
离子注入、刻蚀CVD、外延、扩散等维修区 ISO 6级
以上是科瓦特洁净室为您提供的洁净资讯，

D. 半导体洁净车间适合用哪种灭火系统

半导体的车间有不同洁净等级:class 再依洁净度分1,10,100,1000,10000 从这方面来分过滤系统就不只是计算几套而已，还要注意细节和洁净能力;

E. 集成电路半导体车间工厂需要布置无尘车间

集成电路无尘车间是为了满足半导体制造工艺需求的洁净室，该无尘车间对环境洁净度、温湿度、振动、ESD、AMC控制等都有一定的要求。相对于其他工业洁净室，集成电路制造无尘车间有面积大、洁净等级高、温湿度控制精度高等特点。

远程在线式遥测激光尘埃粒子计数器是几乎每个精密电子车间必不可少的设备，如果在我们的半导体车间中有这样一种监测颗粒浓度的仪器，那么我们在办公室时就可以轻松了解车间中尘埃粒子情况，实现产品生产与监督智造的智能体验。例如，当我们检测到车间内的颗粒浓度过高时，我们可以及时通知相应车间的负责人，并采取针对性的措施降低颗粒浓度，以达到安全可靠的标准，这非常有利于产品的安全生产，为客户提供可靠的高质量产品。

CW-RPC系列远程遥测激光尘埃粒子计数器是深圳赛纳威研发的智能多点净化检测系统的终端设备，不仅可以为用户提供实时准确地远程测量所监控环境的微粒数量和净化等级，根据不同需要增加或减少控制终端，还可以实现7*24实时远程自动监测，通过RJ45网络接口、WiFi、485（moudbus）等，将数据送给PC终端，显示当前监测环境的洁净状况。该粒子计数器按照国际标准ISO14644-1,GMP和日本工业标准（JIS）要求标定，专业应用于电子行业、制药车间、半导体、光学或精密机械加工等洁净室环境自动监测系统。

F. tft半导体cf车间洁净度是多少

因为电容的原故！
TFT-LCD液晶显示器的工作原理与TN-LCD却有许多不同之处。TFT-LCD液晶显示器的专显像原理是采用“属背透式”照射方式。当光源照射时，先通过下偏光板向上透出，借助液晶分子来传导光线。由于上下夹层的电极改成FET电极和共通电极，在FET电极导通时，液晶分子的排列状态同样会发生改变，也通过遮光和透光来达到显示的目的。但不同的是，由于FET晶体管具有电容效应，能够保持电位状态，先前透光的液晶分子会一直保持这种状态，直到FET电极下一次再加电改变其排列方式为止。

G. 半导体洁净室

半导体无尘室安全工作规范
一、无尘室须知
进入无尘室前，必须知会管理人，并通过基本训练
2.进入无尘室严禁吸烟，吃(饮)食，外来杂物(如报章，杂志，铅笔...等)不可携入，并严禁嘻闹奔跑及团聚谈天。
3.进入无尘室前，需在规定之处所脱鞋，将鞋置于鞋柜内，外衣置于衣柜内，私人物品置于私人柜内，柜内不可放置食物。
4.进入无尘室须先在更衣室，将口罩，无尘帽，无尘衣以及鞋套按规定依程序穿戴整齐，再经空气洗尘室洗尘，并踩踏除尘地毯(洗尘室地板上)方得进入。
5.戴口罩时，应将口罩戴在鼻子之上，以将口鼻孔盖住为原则，以免呼吸时污染芯片。
6. 穿著无尘衣，无尘帽前应显畸理服装以及头发，以免着上无尘衣后，不得整理又感不适。
7. 整肃仪容后，先戴无尘帽，无尘帽的穿戴原则是
(1)头发必须完全覆盖在帽内，不得外露。
（2）无尘帽之下摆要平散于两肩之上，穿上工作衣后，方不致下摆脱出，裸露肩颈部。
8.无尘帽戴妥后，再着无尘衣，无尘衣应尺吋合宜，才不致有裤管或衣袖太短而裸露皮肤之虞，穿衣时应注意帽之下摆应保平整之状态，无尘衣不可反穿。
9.穿著无尘衣后，才着鞋套，拉上鞋套并将鞋套整平，确实盖在裤管之上。
10戴手套时应避免以光手碰触手套之手掌及指尖处(防止钠离子污染)，戴上手套后，应将手套之手腕置于衣袖内，以隔绝污染源。
11.无尘衣着妥后，经洗尘，并踩踏除尘毯，方得进入无尘室。
12. 不论进入或离开无尘室，须按规定在更衣室脱无尘衣，不可在其它区域为之，尤不可在无尘室内边走边脱。
13. 无尘衣，鞋套等，应定期清洗，有破损，脱线时，应即换新。
14. 脱下无尘衣时，其顺序与穿著时相反。
15. 脱下之无尘衣应吊好，并放于更衣室内上层柜子中;鞋套应放置于吊好的无尘衣下方。
16. 更衣室内小柜中，除了放置无尘衣等规定物品外，不得放置其它物品。
17. 除规定纸张及物品外，其它物品一概不得携入无尘室。
18。无尘衣等不得携出无尘室，用毕放置于规定处所。
19. 口罩与手套可视状况自行保管或重复使用。
20. 任何东西进入无尘室，必须用洒精擦拭干净。
21. 任何设备的进入，请知会管理人，在无尘室外擦拭干净，方可进入。
22. 未通过考核之仪器，禁止使用，若遇紧急情况，得依紧急处理步骤作适当处理，例如关闭水、电、气体等开关。
23.无尘室内绝对不可动火，以免发生意外。
二、无尘室操作须知
1.处理芯片时，必须戴上无纤维手套，使用清洗过的干净镊子挟持芯片，请勿以手指或其它任何东西接触芯片，遭碰触污染过的芯片须经清洗，方得继续使用：
(1)任何一支镊子前端(即挟持芯片端)如被碰触过，或是镊子掉落地上，必须拿去清洗请勿用纸巾或布擦拭脏镊子。
(2) 芯片清洗后进行下一程序前，若被手指碰触过，必须重新清洗。
(3) 把芯片放置于石英舟上，准备进炉管时，若发现所用镊子有污损现象或芯片上有显眼由镊子所引起的污染，必须将芯片重新清洗，并立即更换干净的镊子使用。
2. 芯片必须放置盒中，盖起来存放于规定位置，尽可能不让它暴露。
3.避免在芯片上谈话，以防止唾液溅于芯片上，在芯片进扩散炉前，请特别注意，防止上述动作产生，若芯片上沾有纤维屑时，用氮气枪喷之。
4. 从石英舟(Quartz Boat)等载具(Carrier)上，取出芯片时，必须垂直向上挟起，避免刮伤芯片，显微镜镜头确已离芯片，方可从吸座上移走芯片。
5. 芯片上，若已长上氧化层，在送黄光室前切勿用钻石刀在芯片上刻记。
6. 操作时，不论是否戴上手套，手绝不能放进清洗水槽。
7.使用化学站或烤箱处理芯片时，务必将芯片置放入晶舟内，不可使用塑料盒。
8.摆置芯片于石英舟时，若芯片掉落地上或手中则必须重新清洗芯片，然后再进氧化炉。
9. 请勿触摸芯片盒内部，如被碰触或有碎芯片污染，必须重作清洗。
10.手套，废纸及其它杂碎东西，请勿留置于操作台，手套若烧焦、磨破或纤维质变多必须换新。
11.非经指示，绝不可开启不熟悉的仪器及各种开关阀控制钮或把手。
12. 奇怪的味道或反应异常的溶液，颜色，声响等请即通知相关人员。
13. 仪器因操作错误而有任何损坏时，务必立刻告知负责人员或老师。
14. 芯片盒进出无尘室须保持干净，并以保鲜膜封装，违者不得进入。
15. 无尘室内一律使用原子笔及无尘笔记本做记录，一般纸张与铅笔不得携入。三、黄光区操作须知
1.湿度及温度会影响对准工作，在黄光区应注意温度及湿度，并应减少对准机附近的人，以减少湿、温度的变化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之芯片，不得携出黄光区以免感光.
3.己上妥光阻，而在等待对准曝光之芯片，应放置于不透明之蓝黑色晶盒之内， 盒盖必须盖妥。
4. 光罩使用时应持取边缘，不得触及光罩面，任何状况之下，光罩铬膜不得与他物接触，以防刮伤，光罩之落尘可以氮气枪吹之。